一种高自锐性的研磨垫

本发明涉及磨料磨具技术领域，具体涉及一种高自锐性的研磨垫，其包括用于研磨抛光的研磨层、用于承载研磨层的基材层以及用于支撑基材层和研磨层的支撑层，所述研磨层、基材层和支撑层依次复合，所述研磨层由树脂基体、磨料、水溶性填料组成，在不降低磨料硬度的情况下，便可提高研磨垫的自锐性、切削力和使用寿命。