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一种基于近场微波显微系统测量薄膜尺寸的方法

公开(公告)号:CN109633210A

申请日:2019.01.25

公开(公告)日:2019.04.16

分类号:G01Q60/00(2010.01)I

申请(专利权)人:电子科技大学

申请日期:2019.01.25

一种基于近场微波显微系统测量薄膜尺寸的方法,利用近场微波显微镜的探针沿着薄膜样品待测尺寸方向分别经由不同材料的过渡边界来进行扫描,得到谐振曲线并对其进行求导得到谐振频率变化曲线,经拟合得到谐振频率变化曲线的极值点,然后调整探针与样品的间距后重复上述操作,继而得到一组随探针与样品的间距线性变化的极值点差值或者得到两组随探针与样品的间距线性变化的极值点,通过线性拟合得到直线的截距或者两条直线截距的差值即为即为薄膜样品待测方向的尺寸。本发明实现了对薄膜样品平面尺寸的精确测量,有利于准确的表面形貌分析与材料分析,有利于缺陷精确检测的应用;同时避免测量良导体时探针与其接触情况下使得谐振频率消失导致无法测量的问题。